晶體生長時(shí)利用多層套筒形成的溫度梯度控制結(jié)構(gòu)及方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201210028171.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN103243378B | 公開(公告)日 | 2016-12-14 |
申請公布號 | CN103243378B | 申請公布日 | 2016-12-14 |
分類號 | C30B11/00(2006.01)I;C30B28/06(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 劉朝軒;王晨光 | 申請(專利權(quán))人 | 鑫融基投資擔(dān)保有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 471009 河南省洛陽市國家高新技術(shù)開發(fā)區(qū)金鑫路2號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種晶體生長時(shí)利用多層套筒形成的溫度梯度控制結(jié)構(gòu)及方法,涉及一種晶體材料的生長設(shè)備,在爐室(2)內(nèi)設(shè)有坩堝(7),坩堝的下部處于多層套筒內(nèi),多層套筒下端處于于支撐環(huán)上,支撐環(huán)處于爐室底板或底部保溫層(16)上,形成坩堝的下部獨(dú)立空間;在多層套筒外部設(shè)有發(fā)熱體(5);冷卻介質(zhì)降溫機(jī)構(gòu)設(shè)置在多層套筒內(nèi)的下部;由冷卻介質(zhì)降溫機(jī)構(gòu)獲取的坩堝底部低溫區(qū)形成坩堝的溫度梯度;當(dāng)發(fā)熱體對坩堝加熱時(shí),通入坩堝下部的冷卻介質(zhì)降溫機(jī)構(gòu)的冷氣便會處于多層套筒內(nèi),最大可能的使冷能不外泄;而此時(shí)的發(fā)熱體也受到冷能的影響最小,較好的實(shí)現(xiàn)了坩堝上部溫度高下部溫度底的溫度梯度;由于多層筒套的作用,可確保坩堝極少出現(xiàn)非均勻晶核。 |
