MPS二極管器件
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201822268708.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN209766432U | 公開(公告)日 | 2019-12-10 |
申請公布號 | CN209766432U | 申請公布日 | 2019-12-10 |
分類號 | H01L29/861(2006.01); H01L29/06(2006.01); H01L21/329(2006.01) | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 卓廷厚; 李釗君; 劉延聰 | 申請(專利權(quán))人 | 廈門芯光潤澤科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 廈門仕誠聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 廈門芯光潤澤科技有限公司 |
地址 | 361000 福建省廈門市火炬高新區(qū)火炬園火炬路56-58號火炬廣場南樓203-76 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種MPS二極管器件。所述MPS二極管器件自下而上包括陰極電極、N+碳化硅襯底、N?外延層和陽極電極;所述N?外延層具有至少兩個P+區(qū);相鄰兩個所述P+區(qū)之間具有N?補償摻雜區(qū),所述N?補償摻雜區(qū)的深度大于所述P+區(qū)的深度,所述N?補償摻雜區(qū)的摻雜濃度高于所述N?外延層的摻雜濃度;所述陽極電極包括第一金屬和第二金屬,所述P+區(qū)表面與所述第一金屬之間為歐姆接觸,所述N?補償摻雜區(qū)表面與所述第二金屬之間肖特基為接觸。所述MPS二極管能夠改善器件導通特性,促使器件的正向壓降降低。 |
