MPS二極管器件
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201822267178.9 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN209766431U | 公開(kāi)(公告)日 | 2019-12-10 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN209766431U | 申請(qǐng)公布日 | 2019-12-10 |
分類號(hào) | H01L29/861(2006.01); H01L29/06(2006.01); H01L21/329(2006.01) | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 卓廷厚; 李釗君; 劉延聰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 廈門(mén)芯光潤(rùn)澤科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廈門(mén)仕誠(chéng)聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 廈門(mén)芯光潤(rùn)澤科技有限公司 |
地址 | 361000 福建省廈門(mén)市火炬高新區(qū)火炬園火炬路56-58號(hào)火炬廣場(chǎng)南樓203-76 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種MPS二極管器件。所述MPS二極管器件自下而上包括陰極電極、N+碳化硅襯底、N?外延層和陽(yáng)極電極;所述N?外延層具有至少兩個(gè)P+區(qū);相鄰兩個(gè)所述P+區(qū)之間具有N?補(bǔ)償摻雜區(qū),所述N?補(bǔ)償摻雜區(qū)的深度小于或者等于所述P+區(qū)的深度,所述N?補(bǔ)償摻雜區(qū)的摻雜濃度高于所述N?外延層的摻雜濃度;所述陽(yáng)極電極包括第一金屬和第二金屬,所述P+區(qū)表面與所述第一金屬之間為歐姆接觸,所述N?補(bǔ)償摻雜區(qū)表面與所述第二金屬之間為肖特基接觸。所述MPS二極管能夠改善器件導(dǎo)通特性,促使器件的正向壓降降低。 |
