一種真空磁控鍍膜連續(xù)生產(chǎn)線

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201720812366.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN207031540U 公開(kāi)（公告）日 2018-02-23
申請(qǐng)公布號(hào) CN207031540U 申請(qǐng)公布日 2018-02-23
分類號(hào) C23C14/56;C23C14/35;C23C14/50 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張學(xué)星;張欣;王建軍;李久來(lái);李麗梅 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 承德新新機(jī)械制造有限公司
代理機(jī)構(gòu) 石家莊冀科專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 李羨民;雷秋芬
地址 067000 河北省承德市雙灤區(qū)灤河鎮(zhèn)宮后村承德新新機(jī)械
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種真空磁控鍍膜連續(xù)生產(chǎn)線，屬于濺射法鍍覆技術(shù)領(lǐng)域。所述真空磁控鍍膜連續(xù)生產(chǎn)線包括抽氣系統(tǒng)、真空充氣系統(tǒng)、真空腔體、真空載片架、真空磁導(dǎo)向系統(tǒng)和真空傳動(dòng)系統(tǒng)；所述真空腔體通過(guò)腔體固定系統(tǒng)固定；所述抽氣系統(tǒng)、真空充氣系統(tǒng)與真空腔體連通；所述真空載片架置于真空腔體中，真空載片架由真空傳動(dòng)系統(tǒng)驅(qū)動(dòng)，通過(guò)真空磁導(dǎo)向系統(tǒng)引導(dǎo)在真空腔體中往復(fù)運(yùn)動(dòng)；其特別之處在于：所述真空腔體和真空載片架傾斜布置，真空腔體和真空載片架傾斜角度α＝6～8°。本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)了30秒鍍膜生產(chǎn)節(jié)拍，大大提高了真空磁控鍍膜工作效率，降低了產(chǎn)品制造成本。