一種抗靜電雙向拉伸聚乳酸薄膜及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010226811.9 申請日 -
公開（公告）號 CN111269541B 公開（公告）日 2022-02-15
申請公布號 CN111269541B 申請公布日 2022-02-15
分類號 C08L67/04（2006.01）I;C08K5/41（2006.01）I;C08J5/18（2006.01）I;C08J3/22（2006.01）I 分類 有機(jī)高分子化合物；其制備或化學(xué)加工；以其為基料的組合物;
發(fā)明人 陳志平;馮羽風(fēng);黃永生;陸春立 申請（專利權(quán)）人 桂林電器科學(xué)研究院有限公司
代理機(jī)構(gòu) 桂林市持衡專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 唐智芳
地址 541004廣西壯族自治區(qū)桂林市七星區(qū)東城路8號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種抗靜電雙向拉伸聚乳酸薄膜及其制備方法。本發(fā)明所述薄膜按重量百分比計(jì)，其組成為：1?3.5％的酯基季銨鹽和余量的聚乳酸。在制備時(shí)，先將酯基季銨鹽和部分聚乳酸混合均勻，擠出造粒，得到抗靜電母粒；再將所得抗靜電母粒與剩余的聚乳酸混合均勻，經(jīng)擠出、冷卻鑄片、雙向拉伸，即得到所述的抗靜電雙向拉伸聚乳酸薄膜。本發(fā)明選用特定結(jié)構(gòu)的酯基季銨鹽作為抗靜電劑應(yīng)用于PLA薄膜中，在起到抗靜電作用的同時(shí)，還起到提高所得薄膜的斷裂伸長率、光澤度，并降低霧度，所得薄膜的光學(xué)性能得到較大程度的提升。