一種去除氮化硼內(nèi)氧化硼雜質(zhì)且溶劑可重復(fù)使用的導(dǎo)熱絕緣聚酰亞胺薄膜的制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111594727.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114196051A | 公開(公告)日 | 2022-03-18 |
申請公布號 | CN114196051A | 申請公布日 | 2022-03-18 |
分類號 | C08J5/18(2006.01)I;C08L79/08(2006.01)I;C08K3/38(2006.01)I | 分類 | 有機高分子化合物;其制備或化學(xué)加工;以其為基料的組合物; |
發(fā)明人 | 蔣耿杰;白小慶;潘欽鵬;周福龍;姬亞寧;馬紀(jì)翔 | 申請(專利權(quán))人 | 桂林電器科學(xué)研究院有限公司 |
代理機構(gòu) | 桂林市持衡專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 唐智芳 |
地址 | 541004廣西壯族自治區(qū)桂林市七星區(qū)東城路8號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種去除氮化硼內(nèi)氧化硼雜質(zhì)且溶劑可重復(fù)使用的導(dǎo)熱絕緣聚酰亞胺薄膜的制備方法,包括:將氮化硼用含水的極性非質(zhì)子溶劑均勻分散,所得分散液置于反應(yīng)釜中,控制釜內(nèi)壓力和溫度使釜內(nèi)水分充分蒸發(fā);然后將反應(yīng)釜泄壓至常壓,加入二胺和二酐,當(dāng)二酐的總加入量為二胺的90~98mol%時,再控制釜內(nèi)壓力和溫度使釜內(nèi)水分繼續(xù)蒸發(fā);泄壓后調(diào)酐得到PAA樹脂;所得樹脂經(jīng)流涎、亞胺化即得導(dǎo)熱絕緣聚酰亞胺薄膜;收集流涎程序和亞胺化程序中產(chǎn)生的尾氣并進行冷凝,得到回收溶劑,該回收溶劑在制備下一批次薄膜時使用。本發(fā)明所述方法可以在PAA樹脂合成階段排出氮化硼中的氧化硼,回收的溶劑可用于下批次生產(chǎn),且可連續(xù)生產(chǎn)。 |
