一種低黑度聚酰亞胺遮光膜及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111361607.9 申請日 -
公開（公告）號 CN113831735A 公開（公告）日 2021-12-24
申請公布號 CN113831735A 申請公布日 2021-12-24
分類號 C08L79/08（2006.01）I;C08L71/02（2006.01）I;C08K3/04（2006.01）I;C08K3/22（2006.01）I;C08J5/18（2006.01）I 分類 有機高分子化合物；其制備或化學加工；以其為基料的組合物;
發(fā)明人 姬亞寧;青雙桂;周福龍;潘欽鵬;劉姣;白小慶 申請（專利權）人 桂林電器科學研究院有限公司
代理機構 桂林市持衡專利商標事務所有限公司 代理人 唐智芳
地址 541004廣西壯族自治區(qū)桂林市七星區(qū)東城路8號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種低黑度聚酰亞胺遮光膜及其制備方法，屬于聚酰亞胺材料技術領域。本發(fā)明所述的低黑度聚酰亞胺遮光膜采用包括但不限于以下重量配比的組分制備而成：聚酰胺酸樹脂100、炭黑2～4、消光粉3～10、鈦白粉8～20、有機硅光擴散劑2～8、聚乙二醇0.08～0.2。本發(fā)明采用遮蓋力較高的鈦白粉包裹的耐高溫有機硅光擴散劑復合填料與納米炭黑復配組合，所得組合填料具有遮光和光線發(fā)生多次折射的作用，使所得遮光膜在可見光范圍內透光率降低至0.1％以下，黑度87～94％，L值35.0～36.5，光澤度≤17GU，外觀呈現(xiàn)出高級灰質感和亞光表面，能夠滿足高端光電領域應用。