基坑水平位移監(jiān)測裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202020864673.2 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN212477846U | 公開（公告）日 | 2021-02-05 |
| 申請公布號 | CN212477846U | 申請公布日 | 2021-02-05 |
| 分類號 | E02D33/00(2006.01)I;E02D17/02(2006.01)I | 分類 | 水利工程；基礎(chǔ)；疏浚; |
| 發(fā)明人 | 黃文德;彭炎華;李彬;楊家生;張偉;嚴(yán)云;趙峰;譚懿行 | 申請（專利權(quán)）人 | 廣州市吉華勘測股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | 胡彬 |
| 地址 | 511400廣東省廣州市番禺區(qū)大石街石北工業(yè)路684號（巨大創(chuàng)意產(chǎn)業(yè)園）12棟501、502、503、510號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及基坑監(jiān)測領(lǐng)域，尤其涉及一種基坑水平位移監(jiān)測裝置，包括安裝結(jié)構(gòu)、激光測距裝置、角度測量裝置和激光標(biāo)靶。安裝結(jié)構(gòu)包括基座和安裝架，基座設(shè)置于基坑的冠梁上，安裝架角度可調(diào)地設(shè)置于基座上；激光測距裝置設(shè)置于安裝架上；角度測量裝置用于測量安裝架的傾斜角度；激光標(biāo)靶設(shè)置于基坑的影響范圍外，用于反射激光測距裝置發(fā)射的激光。本實(shí)用新型中，激光測距裝置測得其與激光標(biāo)靶的距離，角度測量裝置實(shí)時(shí)測量激光測距裝置的傾斜角度，由此便可計(jì)算出激光測距裝置與激光標(biāo)靶的水平距離。將計(jì)算得到的水平距離與初始的水平距離比較，便可得出基坑的水平位移，實(shí)現(xiàn)基坑水平位移的實(shí)時(shí)測量，結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，測量誤差小。?? |
