一種對流型微納多相流過程強(qiáng)化反應(yīng)裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910824441.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110420605A | 公開(公告)日 | 2019-11-08 |
申請公布號 | CN110420605A | 申請公布日 | 2019-11-08 |
分類號 | B01J8/12(2006.01)I; B01J8/00(2006.01)I | 分類 | 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置; |
發(fā)明人 | 李陸; 劉國海 | 申請(專利權(quán))人 | 杭州烴能科技研究有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 西安眾和至成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 張震國 |
地址 | 210000 江蘇省南京市江北新區(qū)長蘆街道罐區(qū)南路88號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種對流型微納多相流過程強(qiáng)化反應(yīng)裝置,包括上方設(shè)置有上封頭、下部設(shè)置有下封頭的反應(yīng)管;在上封頭頂端設(shè)置有氣體出料口和氣液固三相進(jìn)料口,所述氣液固三相進(jìn)料口的出口設(shè)置有位于反應(yīng)管的反應(yīng)腔內(nèi)的分配盤,所述的下封頭為錐形結(jié)構(gòu)且在其底部設(shè)置有液固兩相出料口,在下封頭錐形結(jié)構(gòu)內(nèi)設(shè)置有帶有微納米通孔的氣體分布錐板,下封頭側(cè)壁上底部開設(shè)有與下封頭和氣體分布錐板之間形成的空腔相連通的氣體進(jìn)料口。本發(fā)明能夠快速將反應(yīng)器內(nèi)生成的固體排出裝置,有效降低反應(yīng)器內(nèi)固體沉積的幾率,大幅度降低裝置操作苛刻性,具有轉(zhuǎn)化率高、氫耗低、油收率高、經(jīng)濟(jì)效益好,利于裝置長周期、規(guī)?;\(yùn)轉(zhuǎn)等優(yōu)點(diǎn)。 |
