一種晶片磨面裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201621283222.X 申請日 -
公開（公告）號 CN206393378U 公開（公告）日 2017-08-11
申請公布號 CN206393378U 申請公布日 2017-08-11
分類號 B24B7/22;B24B47/12;B24B41/06 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 凌曉國;岳旭;余傳江 申請（專利權(quán)）人 浙江傲爾科技有限公司
代理機構(gòu) 嘉興啟帆專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 浙江錢江明士達(dá)光電科技有限公司
地址 314000 浙江省嘉興市海鹽經(jīng)濟開發(fā)區(qū)01省道新海段1000號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種晶片磨面裝置，包括有基座，基座上方設(shè)有若干載樣盤，載樣盤下端設(shè)有垂直朝上安裝的氣缸，載樣盤與氣缸之間設(shè)有支撐桿，支撐桿固定連接氣缸的活塞，氣缸一側(cè)設(shè)有垂直安裝的直線位移傳感器，直線位移傳感器的滑塊與支撐桿通過連接片固定連接，載樣盤與支撐桿之間設(shè)有滾珠軸承，滾珠軸承的內(nèi)圓固定連接支撐桿，滾珠軸承的外圓固定連接載樣盤下端，載樣盤與滾珠軸承之間還設(shè)有磁力轉(zhuǎn)動裝置，磁力轉(zhuǎn)動裝置包括有定子和轉(zhuǎn)子，轉(zhuǎn)子通過滾珠軸承外圓帶動載樣盤轉(zhuǎn)動。本實用新型的晶片磨面裝置能夠同時研磨不同磨面要求的硅片，磨面過程中控制精確，適應(yīng)不同研磨材料及研磨工藝的要求。