芯片焊盤(pán)結(jié)構(gòu)、芯片、晶圓及芯片焊盤(pán)結(jié)構(gòu)制作方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111288715.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN113725186B | 公開(kāi)(公告)日 | 2022-03-01 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113725186B | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-01 |
分類(lèi)號(hào) | H01L23/488(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張賀豐;林杰;李建強(qiáng);李延;王文赫 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 北京智芯半導(dǎo)體科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京潤(rùn)平知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 陳瀟瀟;李紅 |
地址 | 100192北京市海淀區(qū)西小口路66號(hào)中關(guān)村東升科技園A區(qū)3號(hào)樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種芯片焊盤(pán)結(jié)構(gòu)、芯片、晶圓及芯片焊盤(pán)結(jié)構(gòu)制作方法,屬于芯片領(lǐng)域。芯片焊盤(pán)結(jié)構(gòu)包括:第一絕緣層,包括溝槽;第一金屬層,填充在溝槽中,第一金屬層與芯片的內(nèi)部電路相連接,形成導(dǎo)電通道;第二金屬層,形成在第一金屬層上,包括芯片與外部器件連接的焊盤(pán)區(qū)域;第二絕緣層,至少覆蓋第二金屬層在所述焊盤(pán)區(qū)域之外的部分以及第一金屬層;焊盤(pán)區(qū)域包括測(cè)試焊盤(pán)區(qū)域和金凸塊焊盤(pán)區(qū)域;金凸塊焊盤(pán)區(qū)域包括多個(gè)子焊盤(pán)區(qū)域。在金凸塊焊盤(pán)區(qū)域上電鍍形成的金凸塊表面不存在凹坑,同時(shí)能夠保障金凸塊與金凸塊焊盤(pán)之間的有效接觸,降低芯片封裝后因?yàn)樘摵付鴮?dǎo)致功能失效的風(fēng)險(xiǎn)。 |
