一種CVD法制備石墨烯用基底金屬薄片加熱裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110208289.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113061876A | 公開(公告)日 | 2021-07-02 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113061876A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-07-02 |
分類號(hào) | C23C16/46;C23C16/26;C01B32/186 | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 林懿 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 廈門仝希科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 合肥匯融專利代理有限公司 | 代理人 | 楊家坤 |
地址 | 361000 福建省廈門市中國(福建)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)廈門片區(qū)高崎社2286號(hào)408室之一 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種CVD法制備石墨烯用基底金屬薄片加熱裝置,包括底板和頂板,所述頂板平行設(shè)置在底板的豎直上方,且頂板的底側(cè)與底板之間設(shè)置有支撐柱,所述底板的頂側(cè)中部固定連接有中軸管,所述頂板的板體開設(shè)有若干個(gè)呈發(fā)散式分布的滑孔,滑孔內(nèi)豎直穿過有滑桿,所述滑桿的兩端分別固定連接有底部限位板和頂部限位板,所述頂部限位板的頂側(cè)固定連接有立柱,所述立柱的頂端固定連接有支撐腳,所述支撐腳開設(shè)有卡孔,所述卡柱的頂部延伸至支撐腳的頂側(cè)并固定連接有限位側(cè)柱,所述中軸管的管體外側(cè)開設(shè)有螺紋槽并螺紋套設(shè)有螺紋筒一。本發(fā)明適用性強(qiáng),對(duì)承載容器的承載效果佳,加熱效果好,使用便捷,滿足了人們?cè)谏a(chǎn)生活中的使用需求。 |
