一種核孔膜紫外光敏化箱

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201720193989.1 申請日 -
公開（公告）號 CN206535437U 公開（公告）日 2017-10-03
申請公布號 CN206535437U 申請公布日 2017-10-03
分類號 B01D67/00(2006.01)I 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 李亮;宋長青;李曉紅;石紅巖;華勤勤 申請（專利權(quán)）人 庫侖核孔膜科技（棗莊）有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 277800 山東省棗莊市高新區(qū)錦水長街（互聯(lián)網(wǎng)小鎮(zhèn)）16號樓606
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種核孔膜紫外光敏化箱，包括箱體，所述箱體內(nèi)部左右上下對稱開設(shè)有四個(gè)限位滑槽，所述限位滑槽內(nèi)均滑動(dòng)連接有限位滑塊，上方限位滑塊與下方限位滑塊之間均固定連接有隔板，上方隔板上方與下方隔板下方均固定連接有水槽，所述箱體內(nèi)部中央左右對稱固定連接有套筒，所述套筒內(nèi)部滑動(dòng)連接有伸縮桿，伸縮桿內(nèi)部固定連接有菱形機(jī)構(gòu)，所述菱形機(jī)構(gòu)上方固定于上方隔板下側(cè)，菱形機(jī)構(gòu)下方固定于下方隔板上側(cè)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，可以通過上下兩個(gè)方向同時(shí)進(jìn)行對材料進(jìn)行蝕刻，進(jìn)而大大縮短加工時(shí)間，提高加工效率，此外本裝置還能調(diào)節(jié)水槽距離，從而調(diào)節(jié)蝕刻強(qiáng)度。