可移動式射砂裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121709621.9 申請日 -
公開（公告）號 CN215697800U 公開（公告）日 2022-02-01
申請公布號 CN215697800U 申請公布日 2022-02-01
分類號 B22C15/24（2006.01）I;B22C19/00（2006.01）I 分類 鑄造；粉末冶金;
發(fā)明人 錢東航 申請（專利權(quán)）人 重慶方汀機械制造有限責(zé)任公司
代理機構(gòu) 重慶上義眾和專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 譚勇
地址 400800重慶市萬盛工業(yè)園區(qū)平山組團(tuán)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 可移動式射砂裝置，包括支撐架、移動支架、射砂裝置和推移裝置；在所述支撐架內(nèi)的頂部相對設(shè)置有兩個滑軌，所述移動支架滑動連接在所述兩個滑軌上，所述射砂裝置安裝在所述移動支架上；所述射砂裝置包括分流倉、安裝板、射砂組件、兩個接料筒，兩個接料筒安裝在所述分流倉的頂部，所述接料筒與所述分流倉內(nèi)部連通；所述安裝板安裝在所述分流倉的底部，所述射砂組件均勻安裝在所述安裝板上。通過設(shè)置移動支架和推移裝置，在需要檢修和更換射砂組件時，通過推移裝置帶動移動支架從支撐架內(nèi)滑出，方便進(jìn)行快速更換。