一種用于真空鍍膜和刻蝕設(shè)備專用重型直線行走機構(gòu)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020191500.9 申請日 -
公開（公告）號 CN211848122U 公開（公告）日 2020-11-03
申請公布號 CN211848122U 申請公布日 2020-11-03
分類號 C23C14/50(2006.01)I;C23F4/00(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李秀艷;劉洋 申請（專利權(quán)）人 大連威鈦克納米科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 116600遼寧省大連市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)東北七街13號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種用于真空鍍膜和刻蝕設(shè)備專用重型直線行走機構(gòu)，包括行走架體，所述行走架體的底部設(shè)有固定塊，所述固定塊的一側(cè)活動設(shè)有第一深溝球軸承，所述行走架體的中心處固定設(shè)有方管，所述行走架體的底部固定設(shè)有吊座，所述行走架體的頂部兩側(cè)均固定設(shè)有固定軸。本實用新型的第二深溝球軸承通過固定軸以及螺母固定在行走架體上，在垂直方向由于重力作用，機構(gòu)懸掛固定于方管上，側(cè)方向上兩側(cè)通過第二深溝球軸承將機構(gòu)限定在方管上滑動，固定塊與方管留有一定量的間隙，將整個機構(gòu)限定在方管上其作用是限定整個機構(gòu)的運動方向，以滿足在高真空高溫情況下電鍍或者刻蝕的工藝要求。??