一種PVD磁控離子鍍膜設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120325219.4 申請日 -
公開（公告）號 CN214300331U 公開（公告）日 2021-09-28
申請公布號 CN214300331U 申請公布日 2021-09-28
分類號 C23C14/35（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李秀艷;王洪權 申請（專利權）人 大連威鈦克納米科技有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 116113遼寧省大連市經濟技術開發(fā)區(qū)東北七街13號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種PVD磁控離子鍍膜設備，包括鍍膜腔，所述鍍膜腔頂部固定設置有電機，所述電機輸出軸端部傳動連接有轉軸，所述轉軸外周面連接有兩個固定圈，兩個所述固定圈外周面均連接有圓盤，兩個所述圓盤頂部均貫穿設置有四個轉桿，多個所述轉桿頂部均連接有轉盤，且多個所述轉桿底部均固定設置有行星齒輪，所述鍍膜腔內腔頂部以及底部均設置有內齒圈，兩個所述內齒圈均與對應位置的四個行星齒輪相嚙合。本實用新型通過電機帶動多個待鍍膜件做環(huán)形移動的同時自轉，當多個待鍍膜件轉動至靶陰極附近時，靶陰極濺射的等離子實現(xiàn)對自轉待鍍膜件均勻鍍膜，鍍膜效果較好，且一次實現(xiàn)對多個待鍍膜件鍍膜，鍍膜效率較高。