一種改善直拉法生長(zhǎng)單晶硅質(zhì)量的方法以及加熱器
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201510210421.1 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN104818524A | 公開(kāi)(公告)日 | 2015-08-05 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN104818524A | 申請(qǐng)公布日 | 2015-08-05 |
分類號(hào) | C30B15/14(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I | 分類 | 晶體生長(zhǎng)〔3〕; |
發(fā)明人 | 湯灝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 西安隆基新能源有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 杭州天勤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 湯灝;樂(lè)葉光伏能源有限公司 |
地址 | 310013 浙江省杭州市西湖區(qū)求是村72幢402室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種改善直拉法生長(zhǎng)單晶硅質(zhì)量的方法,包括步驟:將原料硅投入晶體爐的坩堝內(nèi);加熱器加熱坩堝融化堝內(nèi)的原料硅并保持熔體在熔融狀態(tài);將棒狀籽晶浸入熔液中;通入惰性氣體至熔體液面,控制爐內(nèi)壓力;一邊旋轉(zhuǎn)坩堝,一邊提升相對(duì)坩堝反向旋轉(zhuǎn)的棒狀籽晶,得到圓柱形的單晶硅晶體,在拉晶過(guò)程中,控制沿著坩堝深度方向的加熱量,使熔體自生長(zhǎng)界面至坩堝底部的溫度梯度減?。槐景l(fā)明還提供了一種實(shí)現(xiàn)本發(fā)明方法的加熱器;本發(fā)明有效減小熱對(duì)流,降低單晶硅中的微缺陷和有害雜質(zhì),制備得到低缺陷、超低氧、高少子壽命的單晶硅,成本較低且易于實(shí)現(xiàn)。 |
