一種暗場掩模板

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201820003634.6 申請日 -
公開（公告）號 CN207992678U 公開（公告）日 2018-10-19
申請公布號 CN207992678U 申請公布日 2018-10-19
分類號 G03F1/42 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 于江勇;廖翌如;趙磊;劉園園 申請（專利權(quán)）人 北京宇翔電子有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京正理專利代理有限公司 代理人 張雪梅
地址 100015 北京市朝陽區(qū)萬紅西街2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開一種暗場掩模板，該暗場掩模板包括：觀察區(qū)、粗對準(zhǔn)區(qū)和精確對準(zhǔn)區(qū)，其中，觀察區(qū)內(nèi)部被切割出矩形的圖形區(qū)，用于透過其觀察待光刻晶圓上的圖形，并用于尋找待光刻晶圓上的用于粗對準(zhǔn)的標(biāo)識和用于精確對準(zhǔn)的標(biāo)識；粗對準(zhǔn)區(qū)，包括用于粗對準(zhǔn)的圖形，用于粗對準(zhǔn)的圖形布置為與待光刻晶圓上的、用于粗對準(zhǔn)的標(biāo)識相對應(yīng)；以及精確對準(zhǔn)區(qū)，包括用于精確對準(zhǔn)的圖形，用于精確對準(zhǔn)的圖形布置為與待光刻晶圓上的、用于精確對準(zhǔn)的標(biāo)識相對應(yīng)。