針對圖像深度學(xué)習(xí)模型識別的自適應(yīng)正則化優(yōu)化處理方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010191674.X 申請日 -
公開(公告)號 CN111582299A 公開(公告)日 2020-08-25
申請公布號 CN111582299A 申請公布日 2020-08-25
分類號 G06K9/62(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 羅兆經(jīng);謝鐘樂;姚暢 申請(專利權(quán))人 杭州銘之慧科技有限公司
代理機構(gòu) 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 代理人 杭州銘之慧科技有限公司
地址 311215浙江省杭州市蕭山區(qū)寧圍街道保億中心2幢2601室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種針對圖像深度學(xué)習(xí)模型識別的自適應(yīng)正則化優(yōu)化處理方法。建立深度學(xué)習(xí)模型,提取出深度學(xué)習(xí)模型每一層的模型參數(shù);首先計算混合高斯中高斯模型對于深度學(xué)習(xí)模型的每一層模型參數(shù)的責(zé)任函數(shù);再采用以下公式處理獲得自適應(yīng)的正則項;依次重復(fù)步驟迭代處理直到收斂為止;將正則項輸入到深度學(xué)習(xí)模型中,然后在模型參數(shù)基礎(chǔ)上減去正則項。本發(fā)明不同層的模型參數(shù)學(xué)習(xí)到最佳的正則項,從而有效地解決過擬合的問題,提高圖像識別準確率,運用了延遲更新的方法來快速更新正則項,可廣泛用于圖像識別領(lǐng)域的深度學(xué)習(xí)模型。??