基于太赫茲波的內(nèi)部缺陷成像方法、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202210302242.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN114689598A 公開(kāi)(公告)日 2022-07-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN114689598A 申請(qǐng)公布日 2022-07-01
分類號(hào) G01N21/88(2006.01)I;G01N21/3581(2014.01)I;G01N21/3563(2014.01)I;G06K9/00(2022.01)I;G06K9/62(2022.01)I 分類 測(cè)量;測(cè)試;
發(fā)明人 梅紅偉;劉建軍;王黎明;陳大兵;王磊 申請(qǐng)(專利權(quán))人 清華大學(xué)深圳國(guó)際研究生院
代理機(jī)構(gòu) 深圳市鼎言知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 518055廣東省深圳市南山區(qū)西麗街道深圳大學(xué)城清華校區(qū)A棟2樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種基于太赫茲波的內(nèi)部缺陷成像方法、電子設(shè)備及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),所述方法包括:獲取對(duì)待測(cè)產(chǎn)品的多個(gè)檢測(cè)點(diǎn)進(jìn)行太赫茲波掃描檢測(cè)而反射回的多個(gè)太赫茲反射波;提取多個(gè)太赫茲反射波的波形特征參數(shù);將多個(gè)太赫茲反射波的波形特征參數(shù)輸入至缺陷識(shí)別模型,得到每個(gè)檢測(cè)點(diǎn)的缺陷檢測(cè)結(jié)果及缺陷決策值;基于每個(gè)檢測(cè)點(diǎn)的缺陷檢測(cè)結(jié)果生成缺陷成像圖,及基于每個(gè)檢測(cè)點(diǎn)的缺陷決策值生成缺陷位置決策圖。本發(fā)明利用太赫茲波來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)待測(cè)產(chǎn)品的內(nèi)部缺陷成像,缺陷檢測(cè)準(zhǔn)確性高,且可確定內(nèi)部缺陷的嚴(yán)重程度。