一種方英石的制備方法及含該方英石的蒙脫石標(biāo)準(zhǔn)對(duì)照品的制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201810641094.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN108675308B 公開（公告）日 2021-10-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN108675308B 申請(qǐng)公布日 2021-10-01
分類號(hào) C01B33/12（2006.01）I;C03B20/00（2006.01）I 分類 無機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 陳文波;鄭海輝;李忠良;樂盛;呂光烈 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 浙江仟源海力生制藥有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京中政聯(lián)科專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 尹瑋
地址 316000浙江省舟山市舟山經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)新港園區(qū)新港十一道66號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種方英石的制備方法及含該方英石的蒙脫石標(biāo)準(zhǔn)對(duì)照品的制備方法，采用無晶態(tài)二氧化硅粉末作為原料制備α?石英，制備過程簡(jiǎn)單，煅燒時(shí)間短，制得的方英石光學(xué)純度高，轉(zhuǎn)化率高，通過用于蒙脫石方英石制備蒙脫石標(biāo)準(zhǔn)對(duì)照品，用與蒙脫石雜質(zhì)檢測(cè)的自身對(duì)照，使得X射線衍射法掃描角度變?。?5?35°），減少了儀器所需能量，且使方英石含量圖譜分析變得簡(jiǎn)單明了。