一種硅基底3-6μm紅外窗口片

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010483854.5 申請日 -
公開（公告）號 CN111812753A 公開（公告）日 2020-10-23
申請公布號 CN111812753A 申請公布日 2020-10-23
分類號 G02B1/113;C23C14/08;C23C14/30;G01J5/02 分類 光學(xué);
發(fā)明人 潘安練 申請（專利權(quán)）人 湖南麓星光電科技有限公司
代理機構(gòu) 長沙市融智專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 鐘丹;魏娟
地址 410082 湖南省長沙市岳麓區(qū)麓山南路2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種硅基底3?6μm紅外窗口片，所述紅外窗口片以單晶硅為基底，所述基底兩側(cè)均鍍有單層的增透膜，所述增透膜選自一氧化硅膜或氧化釔膜，本發(fā)明以單晶硅作為基底，選擇一氧化硅或者氧化釔作為增透膜材料，意外的發(fā)現(xiàn)在特定的厚度下（一氧化硅增透膜的厚度為0.537?0.696μm，氧化釔增透膜的厚度為0.502?0.689μm），只需兩側(cè)均采用單層的增透膜結(jié)構(gòu)，即可使紅外窗口片在3?6μm的紅外波段平均透過率≥90％，極值透過率≥98％；而在優(yōu)選的方案中，所述紅外窗口片在3?6μm的紅外波段平均透過率≥90％，極值透過率≥99.6％。本發(fā)明采用單層增透膜卻達到了現(xiàn)有技術(shù)中需要設(shè)置多層增透膜才能達到的紅外窗口的使用效果。