一種清洗拋光墊的方法及裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011223294.6 申請日 -
公開（公告）號 CN114434332A 公開（公告）日 2022-05-06
申請公布號 CN114434332A 申請公布日 2022-05-06
分類號 B24B53/017（2012.01）I;B24B49/00（2012.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 王建新 申請（專利權(quán)）人 西安奕斯偉材料技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 西安維英格知識產(chǎn)權(quán)代理事務所（普通合伙） 代理人 沈寒酉;王渝
地址 710065陜西省西安市高新區(qū)西灃南路1888號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明實施例公開了一種清洗拋光墊的方法及裝置；該方法可以包括：高壓清洗噴頭按照設(shè)定角度向拋光墊上的目標區(qū)域噴射去離子水流時，通過在所述拋光墊上方的設(shè)定位置所設(shè)置的壓力傳感器感應反射水流的壓力值；相應于所述反射水流的壓力值大于設(shè)定的第一壓力閾值，延長所述高壓清洗噴頭向所述目標區(qū)域噴射去離子水流的時長；相應于所述反射水流的壓力值小于設(shè)定的第二壓力閾值，移動所述高壓清洗噴頭以向所述目標區(qū)域的下一區(qū)域噴射去離子水。