研磨裝置、研磨機(jī)及研磨方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011231876.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112518573B 公開（公告）日 2022-06-07
申請(qǐng)公布號(hào) CN112518573B 申請(qǐng)公布日 2022-06-07
分類號(hào) B24B37/10（2012.01）I;B24B37/30（2012.01）I;B24B53/007（2006.01）I;B24B55/02（2006.01）I;B24B7/22（2006.01）I;H01L21/304（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I;H01L21/677（2006.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 陳興松 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 西安奕斯偉材料技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 西安嘉思特知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 -
地址 710000 陜西省西安市高新區(qū)西灃南路1888號(hào)1-3-029室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種研磨裝置、研磨機(jī)及研磨方法，其中研磨裝置，包括：工作臺(tái)；旋轉(zhuǎn)臺(tái)，設(shè)置在工作臺(tái)上；設(shè)置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上的至少一個(gè)真空吸盤；研磨盤，位于真空吸盤的上方；第一清洗裝置，設(shè)置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，以對(duì)研磨盤與真空吸盤接觸部分的研磨區(qū)域進(jìn)行清洗和冷卻；第一清洗干燥裝置，可活動(dòng)地設(shè)置在工作臺(tái)上，以對(duì)研磨后的硅片背面進(jìn)行清洗干燥。本發(fā)明的研磨裝置的第一清洗裝置專門針對(duì)于研磨區(qū)域進(jìn)行清洗和冷卻，增強(qiáng)了冷卻效果的同時(shí)減少了水資源的浪費(fèi)，而且實(shí)現(xiàn)了在硅片研磨的同時(shí)進(jìn)行清洗。