一種將拋光墊的初始狀態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)橛H水性的方法和裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011256546.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112372509B | 公開(公告)日 | 2022-02-25 |
申請公布號 | CN112372509B | 申請公布日 | 2022-02-25 |
分類號 | B24B53/017(2012.01)I;B24B37/20(2012.01)I;B24B37/30(2012.01)I;B24B37/10(2012.01)I;B24B37/34(2012.01)I | 分類 | 磨削;拋光; |
發(fā)明人 | 趙晟佑 | 申請(專利權(quán))人 | 西安奕斯偉材料技術(shù)有限公司 |
代理機構(gòu) | 西安維英格知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 李斌棟;沈寒酉 |
地址 | 710065陜西省西安市高新區(qū)西灃南路1888號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明實施例公開了一種將拋光墊的初始狀態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)橛H水性的方法和裝置;該方法可以包括:將新拋光墊粘貼至拋光機臺的下定盤后,將符合設(shè)定硬度以及粗糙度材質(zhì)制成的轉(zhuǎn)換用晶圓置于拋光頭的組裝式吸附墊中;利用所述新拋光墊對所述轉(zhuǎn)換用晶圓進行拋光作業(yè);當所述新拋光墊對設(shè)定數(shù)目的轉(zhuǎn)換用晶圓完成拋光作業(yè)后,所述新拋光墊的表面狀態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)橛H水性狀態(tài)。 |
