鍍膜治具

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202122871032.7 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN216378356U 公開(kāi)（公告）日 2022-04-26
申請(qǐng)公布號(hào) CN216378356U 申請(qǐng)公布日 2022-04-26
分類號(hào) C23C14/24（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 何偉峰;溫勇健;劉志雄 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 重慶佳禾光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 林玉杰
地址 400900重慶市大足區(qū)雙橋技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)電子信息產(chǎn)業(yè)園208棟1-2層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種鍍膜治具，包括：下治具，為多邊形框架結(jié)構(gòu)；上治具，為與下治具適配的多邊形框架結(jié)構(gòu)，上治具可拆卸地設(shè)置于下治具上，上治具能夠與下治具相互配合以?shī)A持基材；其中，上治具用于抵壓基材邊緣的區(qū)域或者下治具用于抵壓基材邊緣的區(qū)域間隔設(shè)置有多個(gè)凹槽。通過(guò)在上治具用于抵壓基材邊緣的區(qū)域或者下治具用于抵壓基材邊緣的區(qū)域間隔設(shè)置多個(gè)凹槽，能夠減少基材邊緣與鍍膜治具的接觸面積，即能夠減少基材邊緣受到剛性約束的面積，同時(shí)，基材邊緣對(duì)應(yīng)凹槽的區(qū)域在鍍膜的過(guò)程中能夠自由脹縮，有利于釋放基材邊緣在鍍膜的過(guò)程中所產(chǎn)生的應(yīng)力，從而有利于減少基材邊緣在鍍膜的過(guò)程中應(yīng)力的集中，進(jìn)而有利于減小基材的翹曲程度。