具有分段式電極的多模干涉光調(diào)制器
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010841343.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112034636A | 公開(公告)日 | 2020-12-04 |
申請公布號 | CN112034636A | 申請公布日 | 2020-12-04 |
分類號 | G02F1/01;G02F1/03;G02F1/035;G02F1/095;G02F1/125;G02F1/025;G02B6/12;G02B6/122 | 分類 | 光學(xué); |
發(fā)明人 | 王磊;楊波 | 申請(專利權(quán))人 | 紹興龐納微電子科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 杭州宇信知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 田書亞 |
地址 | 312000 浙江省紹興市柯橋區(qū)齊賢街道科創(chuàng)大廈A座901-902室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種具有分段式電極的多模干涉光調(diào)制器,包括襯底,設(shè)于襯底上的緩沖層,設(shè)于緩沖層上的多模波導(dǎo),包覆所述多模波導(dǎo)的包層,以及設(shè)于所述包層上的至少一條調(diào)制電極;所述調(diào)制電極包括位于所述多模波導(dǎo)上部并沿波導(dǎo)軸線方向間隔排布的分段工作電極,以及用于依次連接所述分段工作電極的連接電極;其中,工作電極對應(yīng)所述多模波導(dǎo)的可調(diào)制區(qū)域,用于引起多模波導(dǎo)相應(yīng)區(qū)域的折射率變化,所述連接電極對應(yīng)所述多模波導(dǎo)的非調(diào)制區(qū)域或位于多模波導(dǎo)之外。本發(fā)明的光調(diào)制器具有結(jié)構(gòu)緊湊,易于光電子集成,工藝容差大,制作工藝簡單的特點,同時分段式電極的引入可將電光作用集中在光強比較集中的區(qū)域,提高能量利用率,減少驅(qū)動電壓。 |
