一種MEMS加速度傳感器及制造方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201610312471.5 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN106018879B | 公開(公告)日 | 2019-03-22 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN106018879B | 申請(qǐng)公布日 | 2019-03-22 |
分類號(hào) | G01P15/08(2006.01)I; B81B3/00(2006.01)I; B81C1/00(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 周志健; 朱二輝; 陳磊; 楊力建; 鄺國華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海芯赫科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | 廣東合微集成電路技術(shù)有限公司 |
地址 | 523808 廣東省東莞市松山湖高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)新竹路4號(hào)新竹苑6幢辦公501 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及傳感器加工技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及基于MEMS加工工藝制成的MEMS加速度傳感器,包括硅襯底、硅襯底中的第一預(yù)定空腔及第一預(yù)定空腔上方的懸空硅膜、至少一個(gè)第二預(yù)定空腔及其第二預(yù)定空腔上方的懸空硅膜、半導(dǎo)體摻雜電阻,半導(dǎo)體摻雜與導(dǎo)電線電連接;于第一預(yù)定空腔上方形成第一連接件、第一釋放槽,于第二預(yù)定空腔上方形成限位擋板、第二釋放槽、第二連接件,第一釋放槽結(jié)合第二釋放槽形成一懸空釋放結(jié)構(gòu);其中,限位擋板一端連接硅襯底,另一端自由懸空,第一連接件、第二連接件一端與硅襯底連接,另一端和第一預(yù)定空腔上方的懸空硅膜連接,通過懸空釋放結(jié)構(gòu)中的限位擋板實(shí)現(xiàn)精確的限位過載保護(hù)目的,結(jié)構(gòu)簡單,且易于加工。 |
