一種平面光學(xué)元件的面形修正方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110156854.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112817070A | 公開（公告）日 | 2021-05-18 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112817070A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-05-18 |
| 分類號(hào) | G02B1/10 | 分類 | 光學(xué); |
| 發(fā)明人 | 朱元強(qiáng);葉沈航;程章彬;廖以旺 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 福建福特科光電股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 福州市眾韜專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 方金芝 |
| 地址 | 350100 福建省福州市閩侯縣鐵嶺工業(yè)集中區(qū)二期7號(hào)路8號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種平面光學(xué)元件的面形修正方法，包括如下步驟：在平面光學(xué)元件的正面鍍制要求的多層膜，并根據(jù)公式（1）在平面光學(xué)元件的背面鍍制修正的單層膜，修正的單層膜厚度＝2/3×多層膜厚度×K1×K2公式（1）；公式（1）中，K1＝鍍制多層膜使用的離子能量/鍍制修正單層膜使用的離子能量，K2＝10×（平面光學(xué)元件的厚度/平面光學(xué)元件最大方向口徑）。在平面光學(xué)元件的背面用SiO2單層膜修正平面光學(xué)元件的面形，較雙面鍍制相同薄膜的方案容易操作，且SiO2同各種光學(xué)元件材料匹配性好，牢固度好。修正后的面形精度高，很容易到達(dá)小于λ/10。 |
