一種量子微納結構光電子芯片及其制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110501408.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113241395A | 公開(公告)日 | 2021-08-10 |
申請公布號 | CN113241395A | 申請公布日 | 2021-08-10 |
分類號 | H01L33/04;H01L33/06;H01L33/14;H01L33/20;H01L33/00;H01L33/32;H01S5/34;H01S5/343;B82Y40/00 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 王曉波;沈洋;王楠 | 申請(專利權)人 | 西安瑞芯光通信息科技有限公司 |
代理機構 | 北京盛凡智榮知識產權代理有限公司 | 代理人 | 范琳 |
地址 | 710065 陜西省西安市高新區(qū)高新路36號A1號樓二層C15室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開的屬于半導體電子信息領域技術領域,具體為一種量子微納結構光電子芯片及其制造方法,包括基底,所述基底的上方設置有發(fā)光區(qū),所述發(fā)光區(qū)的上方設置有量子微納結構區(qū),所述量子微納結構區(qū)的上方設置有覆蓋區(qū),所述發(fā)光區(qū)從下到上依次包括AlN層、AlGaN層、SL底層和光亮層,所述量子微納結構區(qū)包括組合包層,所述組合包層的上下側均設置有量子限制包層,下側所述量子限制包層的下側設置有限制層,通過采用量子三維微納結構和特殊設計的限制層和量子限制包層,然后利用先進的電子束直寫技術結合特殊外延生長結構,能夠極大的優(yōu)化和提升光電子芯片發(fā)光區(qū)的光子復合效率,進而提升電光效率和發(fā)光功率。 |
