一種碳化硅研磨的裝置和方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111448410.9 申請日 -
公開（公告）號 CN114012597A 公開（公告）日 2022-02-08
申請公布號 CN114012597A 申請公布日 2022-02-08
分類號 B24B37/10（2012.01）I;B24B37/34（2012.01）I;B24B55/03（2006.01）I;B24B1/00（2006.01）I;B08B3/02（2006.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 王越波;高冰 申請（專利權(quán)）人 浙江晶越半導(dǎo)體有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 312400浙江省紹興市嵊州市浦口街道浦南大道368號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及化學(xué)機(jī)械研磨技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種碳化硅研磨的裝置和方法，其中研磨裝置，包括：工作臺；旋轉(zhuǎn)臺，設(shè)置在工作臺上；研磨盤，設(shè)置在旋轉(zhuǎn)臺上；吸附盤，設(shè)置在研磨盤上；第一清洗降溫裝置，設(shè)置在工作臺上，用來對研磨盤和真空吸附盤接觸部分的研磨區(qū)域進(jìn)行清洗和冷卻；第一清洗干燥裝置，可以活動的防止在工作臺上，以對研磨后的晶片背面進(jìn)行清洗干燥。本發(fā)明的第一清洗裝置有效的增強(qiáng)了研磨區(qū)域的清洗和冷卻效果同時減少了水資源的浪費，而且實現(xiàn)了在碳化硅晶片研磨的同時進(jìn)行清洗。