一種高純半絕緣碳化硅粉料的制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110257948.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113120909B | 公開(公告)日 | 2022-03-22 |
申請公布號 | CN113120909B | 申請公布日 | 2022-03-22 |
分類號 | C01B32/984(2017.01)I | 分類 | 無機化學; |
發(fā)明人 | 高冰;李俊;葉宏亮 | 申請(專利權)人 | 浙江晶越半導體有限公司 |
代理機構 | 杭州六方于義專利代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 施少鋒 |
地址 | 312451浙江省紹興市嵊州市浦口街道浦南大道368號9號廠房二樓202室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種高純半絕緣碳化硅粉料的制備方法,將高純硅粉及高純碳粉放入熱場內(nèi)進行兩個階段的高溫反應,熱場內(nèi)設置了一種可拆卸的卡槽式石墨內(nèi)置薄坩堝,為了提高石墨坩堝使用壽命以及方便于拆卸。本發(fā)明工序簡單,制備出的碳化硅粉料純度高,且顆粒度大小可控。 |
