一種噴嘴高度的微調(diào)裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201922077806.1 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN211801924U 公開(公告)日 2020-10-30
申請(qǐng)公布號(hào) CN211801924U 申請(qǐng)公布日 2020-10-30
分類號(hào) B05B15/68(2018.01)I 分類 -
發(fā)明人 呂健 申請(qǐng)(專利權(quán))人 無錫升滕半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 無錫松禾知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 花修洋
地址 214000江蘇省無錫市新吳區(qū)天安智慧城A1-B705
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種噴嘴高度的微調(diào)裝置,包括底座、活塞塊、旋鈕和噴嘴;所述底座設(shè)置有進(jìn)氣通道和出氣通道,所述進(jìn)氣通道和出氣通道上下交錯(cuò)設(shè)置,所述活塞塊設(shè)置有導(dǎo)氣通道,所述導(dǎo)氣通道的一端與出氣通道相通,所述導(dǎo)氣通道的另一端與進(jìn)氣通道相通,所述活塞塊與旋鈕上下滑動(dòng)連接,轉(zhuǎn)動(dòng)旋鈕可使活塞塊上下移動(dòng),所述噴嘴可與活塞塊固定連接。本實(shí)用新型所述的一種用于控制進(jìn)氣量的微調(diào)裝置,能夠?qū)崿F(xiàn)噴嘴的上下微小調(diào)整,保證鍍膜質(zhì)量。??