一種用于單片浸入式濕處理工藝的表面排氣設備及方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111077679.0 申請日 -
公開（公告）號 CN113714188A 公開（公告）日 2021-11-30
申請公布號 CN113714188A 申請公布日 2021-11-30
分類號 B08B3/04（2006.01）I;B08B3/10（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 史蒂文·賀·汪;劉立安;王亦天;王錚 申請（專利權）人 硅密芯鍍（海寧）半導體技術有限公司
代理機構 北京市盈科律師事務所 代理人 陳晨;王津
地址 201616上海市松江區(qū)思賢路3600號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種用于單片浸入式濕處理工藝的表面排氣設備及方法，其中，用于單片浸入式濕處理工藝的表面排氣設備包括處理槽、晶圓夾具以及驅動裝置；處理槽內注入有工藝液體；晶圓夾具用于夾持晶圓片，晶圓夾具可在驅動裝置的驅動下帶動晶圓片浸入處理槽的工藝液體內；晶圓片可在驅動裝置的控制下擺動至與工藝液體液面呈角度并旋轉。本發(fā)明提供的用于單片浸入式濕處理工藝的表面排氣設備及方法，利用工藝液體的粘度，通過晶圓片的旋轉帶動工藝液體充滿內凹區(qū)，并通過晶圓片擺動至與工藝液體液面呈一定角度達到向上排氣的效果，確保了晶圓片與工藝液體的充分、均勻接觸，提升了工藝質量。