電鍍液攪拌模塊及包括其的晶圓電鍍系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202022828597.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN213708539U 公開（公告）日 2021-07-16
申請(qǐng)公布號(hào) CN213708539U 申請(qǐng)公布日 2021-07-16
分類號(hào) C25D21/10（2006.01）I;C25D7/12（2006.01）I 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 史蒂文·賀·汪;林鵬鵬 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 硅密芯鍍（海寧）半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海弼興律師事務(wù)所 代理人 王衛(wèi)彬;何橋云
地址 314400浙江省嘉興市海寧市海昌街道海寧經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)隆興路118號(hào)1512室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種電鍍液攪拌模塊及包括其的晶圓電鍍系統(tǒng)，電鍍液攪拌模塊包括電鍍槽、旋轉(zhuǎn)部和擾流部；旋轉(zhuǎn)部定位于電鍍槽內(nèi)，并能夠相對(duì)位于電鍍槽內(nèi)的晶圓表面旋轉(zhuǎn)；擾流部設(shè)置在旋轉(zhuǎn)部上，擾流部至少位于旋轉(zhuǎn)部朝向晶圓的一側(cè)，擾流部能夠擾流電鍍槽內(nèi)的電鍍液。本實(shí)用新型中的旋轉(zhuǎn)部相對(duì)于定位槽旋轉(zhuǎn)，定位槽起到對(duì)旋轉(zhuǎn)部的限位作用，從而能夠加強(qiáng)旋轉(zhuǎn)過程的穩(wěn)定性，能夠?qū)_流部和晶圓表面之間的距離設(shè)計(jì)的更小值，而擾流部和晶圓表面之間的距離越小，擾流部起到的擾流效果越好，電鍍液彼此之間的交換速度越快，從而提高集成技術(shù)的可靠性和良率。