電鍍液保護裝置及包括其的晶圓電鍍系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202120684396.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN214612814U | 公開(公告)日 | 2021-11-05 |
申請公布號 | CN214612814U | 申請公布日 | 2021-11-05 |
分類號 | C25D7/12(2006.01)I;C25D17/00(2006.01)I;C25D21/00(2006.01)I;C25D5/00(2006.01)I | 分類 | 電解或電泳工藝;其所用設備〔4〕; |
發(fā)明人 | 史蒂文·賀·汪;林鵬鵬 | 申請(專利權)人 | 硅密芯鍍(海寧)半導體技術有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海弼興律師事務所 | 代理人 | 楊東明;何橋云 |
地址 | 314400浙江省嘉興市海寧市海昌街道海寧經(jīng)濟開發(fā)區(qū)隆興路118號1512室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種電鍍液保護裝置及包括其的晶圓電鍍系統(tǒng),晶圓電鍍系統(tǒng)的電鍍槽具有用于容納電鍍液的第一空間,第一空間與外界隔離;電鍍液保護裝置包括供氣組件和第一氣體輸送組件,供氣組件用于提供隔離氣體,隔離氣體與電鍍液不發(fā)生化學反應;第一氣體輸送組件的出氣端與第一空間連通,隔離氣體能夠從第一氣體輸送組件的出氣端口流入第一空間。隔離氣體能夠替換掉原本位于電鍍槽內(nèi)的電鍍液上方的空氣,并與電鍍槽共同形成了與外界隔離的第一空間,從而使位于第一空間內(nèi)的電鍍液能夠不與第一空間外的空氣接觸,以避免空氣中的雜質(zhì)落入電鍍液中,并避免電鍍液與空氣產(chǎn)生化學反應,提高電鍍液的品質(zhì),提高電鍍液的保護效果,提高電鍍質(zhì)量。 |
