一種基于高反膜的線性位相梯度超表面結(jié)構(gòu)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201910893576.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN110727037A | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-01-24 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN110727037A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-01-24 |
| 分類號(hào) | G02B1/00;G02B5/08 | 分類 | 光學(xué); |
| 發(fā)明人 | 程鑫彬;何濤;董思禹;王占山 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 上海鑒影光學(xué)科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海科盛知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 同濟(jì)大學(xué) |
| 地址 | 200092 上海市楊浦區(qū)四平路1239號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種基于高反膜的線性位相梯度超表面結(jié)構(gòu)，包括由下而上依次設(shè)置的基板(1)、高反膜(2)和超表面(3)，所述的高反膜(2)為由高折射率介質(zhì)膜層H1和低折射率介質(zhì)膜層L交替設(shè)置構(gòu)成的介質(zhì)膜堆，高反膜(2)與超表面(3)接觸的一側(cè)為低折射率介質(zhì)膜層L，所述的超表面(3)采用高折射率介質(zhì)膜層H2，所述的超表面(3)的一個(gè)周期由多個(gè)不同寬度的單元結(jié)構(gòu)構(gòu)成。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明省略了傳統(tǒng)厚層金屬襯底，引入全介質(zhì)高反膜，提高了超表面的反射率，降低了超表面的損耗，方法新穎，可以針對(duì)可見(jiàn)光至近紅外范圍內(nèi)的激光波長(zhǎng)在設(shè)計(jì)和實(shí)驗(yàn)上分別實(shí)現(xiàn)99％和98％的異常反射偏折效率。 |
