光學(xué)鄰近校正方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200910194449.5 申請日 -
公開（公告）號 CN101995763B 公開（公告）日 2012-04-18
申請公布號 CN101995763B 申請公布日 2012-04-18
分類號 G03F1/36(2012.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 周從樹 申請（專利權(quán)）人 上海高力電纜附件有限公司
代理機構(gòu) 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司;國家電網(wǎng)公司;上海市電力公司上海高力電纜附件有限公司
地址 201203 上海市浦東張江高科技園區(qū)祖沖之路1399號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種光學(xué)鄰近校正方法，包括：根據(jù)光學(xué)衍射原理對設(shè)計圖形進行修正以獲得期望圖形；根據(jù)掩模版圖形，獲得對應(yīng)的曝光圖形；獲取所述曝光圖形中的圖案與所述期望圖形中相應(yīng)圖案的差異；將所獲得的差異與預(yù)定閾值進行比較：當(dāng)所述差異小于或等于預(yù)定閾值時，光學(xué)鄰近校正完成；當(dāng)所述差異大于預(yù)定閾值時，調(diào)整掩模版圖形，并對新的掩模版圖形重新執(zhí)行上述曝光、計算和比較的步驟，直至光學(xué)鄰近校正完成。本發(fā)明縮短了光學(xué)鄰近校正的時間，提高了生產(chǎn)效率。