一種抗光凌空全息成像裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120154476.6 申請日 -
公開（公告）號 CN214278644U 公開（公告）日 2021-09-24
申請公布號 CN214278644U 申請公布日 2021-09-24
分類號 G03H1/22（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 張一帆 申請（專利權(quán)）人 《文化中國》傳媒股份有限公司
代理機構(gòu) 北京首捷專利代理有限公司 代理人 梁婧宇
地址 101500 北京市密云區(qū)興盛南路8號院2號樓106室-198
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種抗光凌空全息成像裝置，中央成像模塊設(shè)置在框架中心，外圍光線偏移模塊包圍中央成像模塊且與框架連接；中央成像模塊包括第一透明板，第一透明板的一側(cè)設(shè)置有高光偏振膜，另一個設(shè)置有全息投影膜，高光偏振膜面向外圍光線偏移模塊的正面，全息投影膜面向外圍光線偏移模塊的背面；外圍光線偏移模塊為多個第二透明板，且位于正面和背面的第二透明板設(shè)置有減光材料。中央成像模塊的外邊緣通過框架隱藏，通過透明板的一側(cè)設(shè)置有高光偏振膜，另一個設(shè)置有全息投影膜實現(xiàn)成像，通過在正面設(shè)置減光材料，降低成像空間亮度的同時提高外圍透明板的反射光線，通過在背面設(shè)置減光材料，控制畫面背景亮度。