一種結(jié)晶冷卻裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021942533.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN213317549U | 公開（公告）日 | 2021-06-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN213317549U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-01 |
| 分類號(hào) | B22D11/055（2006.01）I | 分類 | 鑄造；粉末冶金; |
| 發(fā)明人 | 劉炳磊;王巖;林良;顏廷來;宋麗娜 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 煙臺(tái)一諾電子材料有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 煙臺(tái)上禾知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 高峰 |
| 地址 | 264006山東省煙臺(tái)市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)珠江路32號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種結(jié)晶冷卻裝置，包括中空的上冷卻組件和下冷卻組件，二者均設(shè)有進(jìn)水管和出水管，二者均設(shè)有一個(gè)平面，平面上設(shè)有半圓形的凹槽，兩個(gè)凹槽相對(duì)組成冷卻套管，上冷卻組件和下冷卻組件分別固定在上固定臺(tái)和下固定臺(tái)上，下固定臺(tái)固定在底座上平面上，底座下平面設(shè)有滑槽，滑槽與滑軌適配，冷卻套管與滑軌平行。本實(shí)用新型采用兩組水冷循環(huán)，金屬出爐溫度可達(dá)常溫，而現(xiàn)有冷卻設(shè)備出爐溫度為50?60℃，本實(shí)用新型可根據(jù)熔煉材料和熔煉參數(shù)的不同，調(diào)整冷卻裝置的位置，滿足不同材料和熔煉參數(shù)下的結(jié)晶需求，實(shí)現(xiàn)制備不同的晶粒尺寸的產(chǎn)品。?? |
