一種氮化鎵襯底上反相器和環(huán)形振蕩器
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202220394893.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN216773248U | 公開(公告)日 | 2022-06-17 |
申請公布號 | CN216773248U | 申請公布日 | 2022-06-17 |
分類號 | H01L27/085(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 梁燁;張元雷;朱昱豪;劉雯 | 申請(專利權(quán))人 | 西交利物浦大學(xué) |
代理機(jī)構(gòu) | 蘇州謹(jǐn)和知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | - |
地址 | 215123江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)獨(dú)墅湖高等教育區(qū)仁愛路111號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種氮化鎵襯底上反相器和環(huán)形振蕩器,包括:Si襯底;GaN緩沖層,形成于所述Si襯底上;GaN溝道層,形成于所述GaN緩沖層上;AlGaN勢壘層,形成于所述GaN溝道層上;E?mode器件和D?mode器件,形成于所述AlGaN勢壘層上,所述E?mode器件和所述D?mode器件的源極和漏極區(qū)域濺射Ti/Al/Ni/Au或Ti/Al/Ni/TiN或Ti/Al/W或Ti/Al/Ni/W的金屬組合,所述D?mode器件的有源區(qū)上覆蓋耐高溫掩膜;電荷隧穿層,形成于所述E?mode器件和D?mode器件上;電荷儲存層,形成于所述電荷隧穿層上;電荷阻擋層,形成于所述電荷儲存層上。本實用新型的氮化鎵襯底上反相器和環(huán)形振蕩器,運(yùn)用電荷儲存層實現(xiàn)E?mode器件的方式,提出了一種在氮化鎵襯底上用直接耦合場效應(yīng)邏輯實現(xiàn)反相器和環(huán)形振蕩電路的全新策略。 |
