連續(xù)直拉單晶的單晶爐

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202022051324.1 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN213652723U 公開(公告)日 2021-07-09
申請(qǐng)公布號(hào) CN213652723U 申請(qǐng)公布日 2021-07-09
分類號(hào) C30B15/12(2006.01)I;C30B15/00(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I 分類 晶體生長(zhǎng)〔3〕;
發(fā)明人 陳五奎;陳昊;陳嘉豪;陳輝 申請(qǐng)(專利權(quán))人 樂山新天源太陽能科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 成都點(diǎn)睛專利代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 李玉興
地址 614000四川省樂山市樂山高新區(qū)建業(yè)大道888號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種能夠?qū)崿F(xiàn)單晶硅的連續(xù)直拉,能夠提高拉晶質(zhì)量,保證連續(xù)加料,并且能夠保證單晶硅棒的品質(zhì)的連續(xù)直拉單晶的單晶爐。該連續(xù)直拉單晶的單晶爐包括爐體;所述爐體的內(nèi)腔內(nèi)安裝有雙層坩堝;所述爐體上端設(shè)置有拉伸裝置;所述爐體上端設(shè)置有硅料加料裝置;所述雙層坩堝下端設(shè)置有石墨加熱托盤;所述石墨加熱托盤下方設(shè)置有托盤;所述托盤下端設(shè)置有拖桿;所述爐體的內(nèi)壁上設(shè)置有保溫層;所述爐體內(nèi)腔的底部設(shè)置有反射層;所述雙層坩堝與保溫層之間設(shè)置有加熱電阻;所述雙層坩堝上方設(shè)置有導(dǎo)流筒;所述爐體下端設(shè)置有加熱電極。采用該連續(xù)直拉單晶的單晶爐能夠保證單晶硅棒的連續(xù)直拉以及提高生產(chǎn)效率。