一種鍍膜設備及鍍膜方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201880005004.5 申請日 -
公開（公告）號 CN110088353A 公開（公告）日 2019-08-02
申請公布號 CN110088353A 申請公布日 2019-08-02
分類號 C23C14/34（2006.01）I; C23C14/56（2006.01）I; C23C14/16（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 陳國安; 方彬; 王浩頡; 趙玉剛 申請（專利權）人 三環(huán)瓦克華（北京）磁性器件有限公司
代理機構 北京律和信知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 三環(huán)瓦克華（北京）磁性器件有限公司; 北京中科三環(huán)高技術股份有限公司
地址 102200 北京市昌平區(qū)創(chuàng)新路10號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種鍍膜設備及鍍膜方法。鍍膜設備包括鍍膜室，鍍膜室的頂部安裝有靶材，其特征在于，靶材包括第一靶材和第二靶材；第一靶材為Nd靶材，或者為Pr靶材，或者為Nd、Pr、Cu中至少兩種以上的合金靶材；第二靶材為Tb靶材；第一靶材位于第二靶材的前方。本發(fā)明的鍍膜設備及鍍膜方法，提高了重稀土金屬的使用效率。