一種利用生長函數(shù)曲線表征漏點(diǎn)全生命周期內(nèi)的發(fā)展?fàn)顟B(tài)的方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201810667952.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN109101679A | 公開(公告)日 | 2018-12-28 |
申請公布號 | CN109101679A | 申請公布日 | 2018-12-28 |
分類號 | G06F17/50 | 分類 | 計(jì)算;推算;計(jì)數(shù); |
發(fā)明人 | 劉書明;郭冠呈;吳雪;仲麗娟;賈代林;孫立瑾 | 申請(專利權(quán))人 | 成都市興蓉環(huán)境股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京眾合誠成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 清華大學(xué);成都市興蓉環(huán)境股份有限公司 |
地址 | 100084 北京市海淀區(qū)100084-82信箱 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提出一種利用生長函數(shù)曲線表征漏點(diǎn)全生命周期內(nèi)的發(fā)展?fàn)顟B(tài)的方法,生長函數(shù)曲線包括靜默期、緩慢期、增長期、穩(wěn)定期;生長函數(shù)曲線上的點(diǎn)包括技術(shù)不可探漏點(diǎn)、初始漏點(diǎn)、發(fā)展漏點(diǎn)、極值漏點(diǎn)、漏點(diǎn)拐點(diǎn);漏點(diǎn)的全生命周期內(nèi)的發(fā)展?fàn)顟B(tài)包括背景漏點(diǎn)、暗漏點(diǎn)、明漏點(diǎn),生長函數(shù)曲線上處于靜默期的技術(shù)不可探漏點(diǎn)為背景漏點(diǎn),處于緩慢期、增長期、穩(wěn)定期的初始漏點(diǎn)、發(fā)展漏點(diǎn)、漏點(diǎn)拐點(diǎn),如果在某個(gè)時(shí)刻未被探測到則為背景漏點(diǎn),如果在某個(gè)時(shí)刻被探測到則為暗漏點(diǎn);生長函數(shù)曲線上處于穩(wěn)定期的極值漏點(diǎn)之后的漏點(diǎn)為明漏點(diǎn)。本發(fā)明利用生長函數(shù)確定漏點(diǎn)在不同時(shí)段內(nèi)的漏失水量,能夠更加有效的指導(dǎo)水平衡分析。 |
