一種拼接式反射罩及其背光裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202121213977.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN215895841U | 公開(公告)日 | 2022-02-22 |
申請公布號 | CN215895841U | 申請公布日 | 2022-02-22 |
分類號 | G09F9/30(2006.01)I;G02F1/13357(2006.01)I;G02B5/08(2006.01)I;G02B7/182(2021.01)I | 分類 | 教育;密碼術(shù);顯示;廣告;印鑒; |
發(fā)明人 | 張小齊;呂小霞;吳新理;李燕;龐春果 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳市隆利科技股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 肖宇揚 |
地址 | 518109廣東省深圳市龍華區(qū)大浪街道高峰社區(qū)鵲山路光浩工業(yè)園G棟3層、4層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種拼接式反射罩及其背光裝置,拼接式反射罩包括拼接區(qū)域,拼接區(qū)域包括層疊設(shè)置的第一拼層和第二拼層,第一拼層設(shè)有用于容納發(fā)光元件的第一開孔,第二拼層設(shè)有用于容納發(fā)光元件的第二開孔,第二拼層疊設(shè)于第一拼層的反射面,且第二開孔的大小大于第一開孔的大小。如此設(shè)置,由于拼接區(qū)域的第二拼層的第二開孔大于第一拼層的第一開孔,相當(dāng)于減小了拼接區(qū)域的厚開孔處的厚度,從而避免拼接式反射罩的拼接區(qū)域的拼層擋光的問題,從而確保拼接式反射罩具有較佳的光學(xué)效果。 |
