光學(xué)元件的高效清洗工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110506808.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113210349A 公開（公告）日 2021-08-06
申請(qǐng)公布號(hào) CN113210349A 申請(qǐng)公布日 2021-08-06
分類號(hào) B08B3/12;B08B3/10;B08B3/08;B08B3/04 分類 清潔;
發(fā)明人 陳呂勇;馬登超;步雪斌;閻國(guó)安 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 南通瑞景光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 226000 江蘇省南通市港閘區(qū)永福路10號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了光學(xué)元件的高效清洗工藝，采用超聲波清洗設(shè)備進(jìn)行清洗，將光學(xué)元件放入清洗籃內(nèi)依次經(jīng)過6道清洗工序后，后脫水干燥，具體步驟如下：1）在超聲波清洗機(jī)的第一個(gè)清洗槽加入清洗劑組合物，清洗90?150s；2）經(jīng)過清洗劑組合物清洗后的光學(xué)元件放入清水槽，清洗60?90s；3）在超聲波清洗機(jī)的第三個(gè)清洗槽加入堿性溶液A；清洗90?150s；4）清水漂洗；5）在超聲波清洗機(jī)的第五個(gè)清洗槽加入堿性溶液B；清洗90?150s；6）清水漂洗；7）將漂洗后的光學(xué)元件進(jìn)行脫水烘干。本發(fā)明具有的清洗時(shí)間短，清洗效果好和生產(chǎn)效率高等特點(diǎn)。