光學(xué)元件鍍膜工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110506998.2 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113265620A 公開(kāi)（公告）日 2021-08-17
申請(qǐng)公布號(hào) CN113265620A 申請(qǐng)公布日 2021-08-17
分類(lèi)號(hào) C23C14/24（2006.01）I;C23C14/12（2006.01）I;C23C14/58（2006.01）I 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 馬登超;陳呂勇;步雪斌;閻國(guó)安 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 南通瑞景光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 226000江蘇省南通市港閘區(qū)永福路10號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種光學(xué)元件鍍膜工藝，包括以下步驟：S1:將裝有光學(xué)元件的夾具固定安裝至工件盤(pán)上；S2:利用工件盤(pán)安裝組件將工件盤(pán)安裝至鍍膜機(jī)的頂部；S3:向鍍膜機(jī)底部的蒸發(fā)組件內(nèi)添加鍍膜液，蒸發(fā)組件設(shè)置有三個(gè)蒸發(fā)源，分別為蒸發(fā)源A、蒸發(fā)源B和蒸發(fā)源C；S4:關(guān)閉鍍膜機(jī)，抽真空，然后向鍍膜機(jī)內(nèi)注入用于產(chǎn)生離子的氣體，并加溫加壓。本發(fā)明的工藝可以提高良品率，提高產(chǎn)品透光率。