一種蒸鍍裝置及方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910252176.9 申請日 -
公開（公告）號 CN110029311B 公開（公告）日 2022-03-18
申請公布號 CN110029311B 申請公布日 2022-03-18
分類號 C23C14/24（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉昕;江社明;仲海峰;習(xí)中革;李遠(yuǎn)鵬;張杰;邱肖盼;張子月;張啟富 申請（專利權(quán)）人 新冶高科技集團(tuán)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京天達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 叢洪杰;和歡慶
地址 100081北京市海淀區(qū)學(xué)院南路76號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種蒸鍍裝置及方法，屬于真空蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域，解決了現(xiàn)有技術(shù)中蒸鍍材料利用率低、鍍層附著力小以及無法精確控制膜厚的問題。蒸鍍裝置，包括蒸鍍腔、熔融單元、蒸氣輸送單元和噴射單元，從熔融腔至噴射腔方向，蒸氣腔的橫截面面積逐漸減小；噴嘴設(shè)有開口大小可調(diào)節(jié)的噴氣口，噴氣口用于向試樣鍍膜；蒸氣腔頂部的橫截面面積大于噴氣口處的橫截面面積。蒸鍍方法包括：將待鍍試樣固定在第一移動部底部，根據(jù)待鍍試樣寬度調(diào)整噴氣口長度；抽真空，設(shè)置移動部的移動速度；加熱蒸鍍材料；蒸鍍；取出試樣。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了對蒸鍍材料的高效利用，并且提高了鍍膜的致密性。