基于元胞結(jié)構(gòu)的溝槽型肖特基二極管器件結(jié)構(gòu)及制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110448706.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113054039A | 公開(公告)日 | 2021-06-29 |
申請公布號 | CN113054039A | 申請公布日 | 2021-06-29 |
分類號 | H01L29/872;H01L21/329;H01L29/06 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 李恩求;李鐵生;楊樂;劉琦 | 申請(專利權(quán))人 | 龍騰半導(dǎo)體股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 西安新思維專利商標事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 李罡 |
地址 | 710018 陜西省西安市未央?yún)^(qū)經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)鳳城十二路1號出口加工區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及基于元胞結(jié)構(gòu)的溝槽型肖特基二極管器件結(jié)構(gòu),所述器件采用蜂窩狀點陣排列的元胞結(jié)構(gòu),在整個元胞區(qū)上方覆蓋有肖特基勢壘金屬,元胞區(qū)相鄰溝槽之間不連通,肖特基勢壘之間連通。本發(fā)明的元胞結(jié)構(gòu)采用蜂窩式的溝槽分布,硅表面溝槽與溝槽之間除了溝槽側(cè)壁的氧化物外,其余部分均為肖特基接觸區(qū)域,這樣在保證減小表面電場的前提下,將肖特基接觸區(qū)域最大化,從而實現(xiàn)用相同的芯片面積達到VF大幅下降,進而降低二極管導(dǎo)通損耗的效果。 |
