一種間斷脈沖電鍍Ni-W-納米CeF3復(fù)合鍍層的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201210453519.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN103806055A 公開（公告）日 2014-05-21
申請(qǐng)公布號(hào) CN103806055A 申請(qǐng)公布日 2014-05-21
分類號(hào) C25D5/18(2006.01)I;C25D15/00(2006.01)I;C25D3/56(2006.01)I 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 劉茂見 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 無錫三洲冷軋硅鋼有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 武春華
地址 214100 江蘇省無錫市惠山經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)前洲配套區(qū)興洲路17號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種間斷脈沖電鍍Ni-W-納米CeF3復(fù)合鍍層的電鍍方法，包括：間斷脈沖電鍍參數(shù)為：工作時(shí)間2-4ms，停止時(shí)間1-2ms，脈沖頻率800-1200Hz，占空比0.1-0.3，平均電流密度0.5-2A/dm2。所述方法能夠提供比直流電鍍更高的硬度。